Los contaminantes moleculares del aire (AMC) suponen un gran reto durante el proceso de producción en la industria de los semiconductores. Pueden provocar interrupciones del proceso o incluso tasas que ya no pueden utilizarse. El origen de las AMC es múltiple, externo e interno. Los sistemas de filtración de aire son capaces de reducir las partículas de polvo no deseadas, pero pueden fallar cuando pasan componentes orgánicos e inorgánicos volátiles.<br/> El personal que entra en la sala limpia puede representar una fuente de impurezas. En el proceso mismo, los dopantes, ácidos, bases, disolventes o sustancias moleculares desgasificadas son impurezas que pueden influir enormemente en la calidad del producto final. Las impurezas típicas de la fase de gas, que requieren una supervisión constante son SO₂, NH₃, NO₂, H₂S, PGMEA, PGME, ácido acético, IPA, etanol, etilenoglicol, THF, TMS, NMP, aromas y refrigerantes, por solo nombrar unas cuantas.<br/> Los métodos de análisis convencionales no pueden ofrecer resultados en poco tiempo porque a menudo requieren una toma y preparación de la muestra que llevan mucho tiempo antes de poder iniciar el proceso de análisis propiamente dicho. Los resultados pueden tardar horas en estar disponibles, demasiado tarde para intervenir a tiempo si un proceso ya está afectado. Para evitar costosas interrupciones prolongadas del proceso y fallos en el producto final, la supervisión continua en tiempo real del aire de la sala limpia se ha vuelto imprescindible. Por consiguiente, los métodos analíticos para evaluar el aire de las salas limpias no solo requieren una elevada especificidad para las moléculas analizadas, sino también una sensibilidad ultraelevada.

• Solución automatizada independiente o integrada en el proceso
• Análisis multicanal o de puntos individuales
• Supervisión AMC en tiempo real, robusta y continuada las 24 horas
• Reconocimiento simultáneo de un gran número de AMC
• Sensibilidad ultraelevada